이석희 SK하이닉스 사장 "中 EUV 도입, 아직 시간 충분"

이석희 SK하이닉스 사장이 중국 공장에 극자외선(EUV) 노광장비 반입이 어렵게 됐다는 보도와 관련해 "아직 충분히 시간이 있다"고 밝혔다.

이 사장은 22일 서울 삼성동 코엑스에서 열린 '제14회 반도체의 날' 행사에 참석해 '중국 공장의 첨단화가 사실상 어렵게 된 것 아니냐'는 질문에 대해 "(EUV를 적용한) 1a 나노미터 제품의 양산을 지난 7월부터 국내 본사에서 시작했다"며 "그래서 (중국 공장에 EUV 장비를 도입하기까지는) 시간이 충분히 있다"고 말했다.

앞서 로이터통신은 지난 18일(현지시간) 백악관 관계자 등 복수 소식통을 인용해 "SK하이닉스가 네덜란드 반도체 장비기업 ASML의 EUV 노광장비 도입으로 반도체 수율을 끌어올리려는 계획을 세웠지만 미국 정부 반대를 넘어설 수 있을지 확실치 않다"고 보도했다.

미 정부 당국자는 SK하이닉스를 언급하진 않았지만, 조 바이든 행정부가 중국군 현대화에 쓰일 수있는 최첨단 반도체 개발에 미국과 동맹국 기술 활용을 막겠다는 입장엔 변함이 없다고 설명했다.

SK하이닉스는 올 하반기부터 경기 이천 M16 팹 등에서 EUV 공정을 적용한 D램을 제조 중이다. EUV는 차세대 노광 기술로 기존 불화아르곤(ArF) 대비 13배 이상 짧은 빛 파장으로 미세공정에 필수 요소다.

이 사장은 "국내 생산에 집중하기도 바쁘다. 중국까지 신경 쓸 시점은 아니다"라며 "(미국 정부 등과) 잘 협조해서 풀어나가겠다"고 말했다.

이 밖에도 메모리반도체 시장 전망에 대해서는 "(긍정적으로 본다고) 지난 9월에 말씀드린 것에서 바뀐 것이 없다"고 말했다.

인텔 낸드 사업부의 인수 진행 상황에 대해서는 "(중국 경쟁당국 등과) 적극적으로 협업하면서 협조하고 있다"고 말했다. SK하이닉스의 낸드 사업부 인수는 8개국에서 기업결합 승인 심사를 받고 있으며 현재 중국의 승인만 남아있다.