삼성전자는 지난해 시설투자에 약 38조5000억원이 집행됐다고 28일 밝혔다.
사업별로는 반도체 32조9000억원, 디스플레이 3조9000억원 수준이다. 메모리는 향후 수요 증가 대응을 위한 첨단공정 전환과 증설로 투자가 증가했고, 파운드리도 EUV 5나노 공정 등 증설 투자로 전년 대비 크게 증가했다.
디스플레이도 QD 디스플레이 생산능력(CAPA) 확대와 중소형 신기술 공정 중심으로 전년 대비 투자가 증가했다.
사업별로는 반도체 32조9000억원, 디스플레이 3조9000억원 수준이다. 메모리는 향후 수요 증가 대응을 위한 첨단공정 전환과 증설로 투자가 증가했고, 파운드리도 EUV 5나노 공정 등 증설 투자로 전년 대비 크게 증가했다.
디스플레이도 QD 디스플레이 생산능력(CAPA) 확대와 중소형 신기술 공정 중심으로 전년 대비 투자가 증가했다.