'개발 기간 단축-수율 확보 용이'… "내년 초 신제품 탑재"1세대 공정 대비 '성능-전력' 효율 각각 '10%-15%' 향상 눈길화성캠퍼스 S3 라인, 10나노 이하 공정 양산 준비 완료도
  • ▲ 삼성전자 화성캠퍼스 S3라인 전경ⓒ삼성전자
    ▲ 삼성전자 화성캠퍼스 S3라인 전경ⓒ삼성전자


삼성전자가 10나노 2세대 핀펫 공정(10LPP) 기반의 시스템온칩(SoC) 제품 양산을 시작한다고 29일 밝혔다.
 
이번 10나노 2세대 공정은 기존 1세대 공정 대비 성능과 전력 효율이 각각 10%, 15% 향상됐다. 이미 양산을 통해 검증된 1세대 공정을 기반으로 하기 때문에 제품 개발부터 양산까지 걸리는 시간(TAT, turn-around time)은 대폭 감소하고, 초기 수율 확보가 용이한 장점이 있다.
 
삼성전자의 10LPP 공정이 적용된 제품은 내년초 출시될 IT 신제품 탑재를 시작으로 다양한 고객과 응용처에 확대 적용될 예정이다.

삼성전자는 10나노 2세대 공정 양산과 함께 화성캠퍼스에 위치한 S3 라인의 파운드리 공정 양산 준비도 마쳤다.
 
S3 라인은 기흥캠퍼스의 S1, 미국 오스틴의 S2 라인에 이은 세번째 파운드리 팹으로, 10나노 공정은 물론 EUV 기술이 적용되는 삼성의 7나노 핀펫 공정 또한 이 곳에서 양산될 예정이다.
 
삼성전자 파운드리 마케팅팀 이상현 상무는 "10LPP공정은 고객에게 향상된 성능을 제공할 뿐만 아니라 높은 초기 수율을 통해 고객의 신제품 출시가 적기에 가능하도록 했다"며 "향후 다양한 응용처에 차별화된 경쟁력을 제공하기 위해 10나노 기반 공정을 8LPP 공정까지 확대하는 등 삼성전자의 10나노 장기 활용 전략은 지속될 것"이라고 말했다.