평택 반도체라인 증설 등 2017년 대비 소폭 늘어
  • 삼성전자는 지난해 시설투자에 약 29조4000억원이 집행됐다고 31일 밝혔다.

    사업 부문별로 반도체에는 23조7000억원, 디스플레이에는 2조9000억원이 사용됐다.

    메모리의 경우 평택 반도체 라인 증설로 2017년 대비 소폭 증가했지만 파운드리는 2017년 10나노 공정 신규 증설이 완료됐다. 

    OLED도 플렉시블 패널 생산능력 증설 투자가 마무리돼 예년 수준으로 감소했다.