평택캠퍼스 파운드리 구축… 초미세 기술 확대'반도체 비전 2030' 달성 133조 투자 '착착'5나노 이하 확장, 기술 초격차 기반 시장 수요 적극 대응
-
삼성전자가 '반도체 비전 2030' 목표 달성을 위해 고삐를 죄고 있다.선대에서 이뤄낸 메모리 신화를 비메모리 사업까지 이식해 삼성전자를 명실상부 글로벌 종합반도체로 도약시키겠다는 이재용 삼성전자 부회장의 의지가 반영된 결과다.삼성전자는 21일 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리(반도체 수탁 생산) 시설을 구축한다고 21일 밝혔다.이로써 파운드리 공장은 기존에 구축한 경기 기흥·화성사업장에 이어 세계 최대 반도체 생산기지인 평택까지 확대하게 됐다. 평택캠퍼스는 D램 등 메모리반도체 공장만 있었지만 이번 투자 결정으로 메모리반도체와 시스템반도체를 아우르는 생산거점으로 변모하게 된다.삼성전자는 지난 2월 EUV 전용 화성 'V1 라인' 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위도 넓어지게 된다.삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서 주력 생산한다는 계획이다.삼성전자는 파운드리에서 EUV 노광 기술 기반으로 최근 7나노 제품 양산과 6·5나노 공정 개발을 완료하는 등 초미세 회로 기술을 발전시키고 있다.4나노 핀펫 공정과 3나노 MBCFETTM 공정 개발에도 박차를 가하고 있다. 삼성전자는 6나노 적용 제품 양산을 시작으로 5나노, 그리고 4나노 핀펫 공정을 개발 완료한다는 계획이다.이 같은 투자는 삼성전자가 작년 4월 발표한 '반도체 비전 2030' 관련 후속 조치의 일환이다.앞서 지난해 4월 이재용 부회장이 문재인 대통령을 초청해 반도체 비전 2030을 선포할 당시 직접 평택에 파운드리 증설을 언급한 바 있다.이를 통해 삼성전자가 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 전략을 차근차근 진행한다는 방침이다.삼성전자의 '반도체 비전 2030'은 비메모리 반도체 세계 1위 달성을 위해 반도체 설계(팹리스)와 반도체 위탁생산(파운드리)을 육성하겠다는 전략의 일환이다.세부적으로 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조원, 최첨단 생산 인프라에 60조원을 투자되는 사업이다.R&D 투자금액이 73조원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다. 생산시설 확충에도 60조원이 투자돼 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다.이는 그동안 약점으로 지적된 팹리스 분야를 키워 미래 사업 및 수익 확보에 적극적으로 나서겠다는 의지다. 삼성전자가 파운드리와 이미지센서 등의 분야를 강화하기 위해 광폭행보를 이어가고 있는 것도 이 때문이다.특히 최근 코로나19 및 무역분쟁 등 반도체 사업을 둘러싼 불확실성이 커지는 상황에서 안정적인 성장세를 보이고 있는 점도 장점으로 꼽힌다. 메모리 반도체의 경우 업황에 민감하지만 시스템 반도체의 경우 매출이 안정적인데다 미래 성장 잠재력 또한 높은 것으로 평가되고 있다.글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다. 이에 따라 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.삼성전자 DS부문 파운드리사업부 정은승 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 말했다.