평택캠퍼스 증설 및 메모리 첨단공정 전환 등에 투자 집행
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    삼성전자는 31일 공시를 통해 올해 시설 투자규모가 약 31조8000억 수준이라고 밝혔다.

    사업 부문별로는 반도체에서 24조9000억원, 디스플레이 3조7000억원 수준이다.

    반도체는 메모리의 경우 평택캠퍼스 증설 및 메모리 첨단공정 전환, 인프라 투자 및 파운드리 증설 등에 투자가 이뤄질 전망이다. 

    파운드리의 경우 지난해 10나노 공정 관련 증설이 완료됨에 따라 올해 투자는 전년 대비 감소할 것으로 예상된다.

    디스플레이도 지난해 플렉시블 OLED 패널 생산량 증설 투자가 집중돼 올해 시설투자는 감소했다.

    3분기 시설투자는 5조6000억원으로, 반도체 4조5000억원, 디스플레이 5000억원 수준이다. 3분기까지 누계로는 22조3000억원이 집행됐다.