SK하이닉스-도시바 '악연 청산', 기술개발 협력 강화키로

SK하이닉스(대표이사 박성욱)가 일본의 도시바와 '나노임프린트 리소그래피(NIL)' 기술을 공동 개발키로 했다고 21일 밝혔다.

NIL 기술은 메모리 반도체 공정의 미세(微細) 패턴을 구현하는데 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가 받고 있다. 기존 공정기술에 비해 경제적이어서 제품 양산에 유리하다는 게 SK하이닉스 측의 설명이다.

두 회사는 이번 공동개발 협약을 통해 NIL 개발의 성공 가능성을 높이고, 제품 양산을 통한 원가 경쟁력을 향상시킬 수 있을 것으로 기대하고 있다.

특히 SK하이닉스는 이 협약을 계기로 도시바와의 악연을 정리했다.

도시바는 지난 3월 SK하이닉스를 상대로 제기한 약 1조1000억원 규모의 손해배상 민사소송을 모두 취하할 예정이다. 대신 SK하이닉스는 합의금 명목으로 약 3000억원은 지급해야 한다.

도시바는 협력업체에서 일하다 SK하이닉스로 이직한 직원이 자사의 기술 자료를 유출했다고 주장하며 소송을 낸 바 있다.

SK하이닉스 관계자는 "공정 미세화의 한계에 대응하기 위한 새로운 기술을 확보할 수 있게 돼 앞으로 메모리 반도체 선두 업체로의 입지를 더욱 강화할 수 있게 됐다"고 말했다.

한편, SK하이닉스는 도시바와 오랜 협력 관계를 유지해왔다. 2007년에는 특허 상호 라이선스 계약을 체결했었다. 2011년부터는 차세대 메모리인 'STT-M램'의 공동개발을 진행하고 있다.