[SK하이닉스 컨콜] "1z 공정 일부 EUV 활용… 생산량 확대"

SK하이닉스가 차세대 극자외선(EUV) 노광장비 적용을 2019년 1z(10나노 초반) 공정부터 일부 활용할 계획이 있다고 밝혔다. EUV는 10나노 이하 공정 미세화를 위해 필수적인 장비로 대당 1500억원이 넘는 것으로 알려졌다.

SK하이닉스는 25일 열린 '2017년 4분기 실적 컨퍼런스콜'에서 "당사는 2019년 이후 1z나노 공정부터 EUV를 일부 활용할 계획을 갖고 있다"며 "현재는 연구개발 단계에서 일부 사용하고 있다"고 전했다.

업계에서는 EUV 도입으로 공급량이 크게 증가할 것으로 기대하고 있다. 특히 공정 미세화에 적극 도입되면서 공정 단계수 감소효과와 비트당 생산비 절감이 나타날 것으로 예상한다.

이에 대해 SK하이닉스는 "EUV 도입으로 경제성을 높이기 위해서는 하루에 2000장 이상의 스루풋(throughput)이 필요하다"며 "빠른 시일에 빗그로스 증대를 기대하긴 어렵다. 어려운 기술 허들을 뚫고 나가는 관점에서 EUV 도입을 계획하고 있다"고 설명했다.