초미세공정 치고나가는 TSMC대규모 투자 추격 나선 삼성전자 5~7나노미터 이하 ASML 독점 생산 EUV 장비 필수TSMC·삼성, 2022년 3나노 양산… ASML 탄탄대로
  • ▲ 반도체 노광 장비 점유율 1위 기업인 네델란드 ASML의 2분기 실적이 매출 33억2600만유로(약 4조5000억원), 순이익 7억5100만유로(약 1조원)를 기록했다.ⓒ연합뉴스
    ▲ 반도체 노광 장비 점유율 1위 기업인 네델란드 ASML의 2분기 실적이 매출 33억2600만유로(약 4조5000억원), 순이익 7억5100만유로(약 1조원)를 기록했다.ⓒ연합뉴스
    반도체 노광 장비 점유율 1위 기업인 네델란드 ASML의 2분기 실적이 매출 33억2600만유로(약 4조5000억원), 순이익 7억5100만유로(약 1조원)를 기록했다. 

    노광장비는 극자외선(EUV)으로 반도체 웨이퍼에 빛으로 미세한 회로를 그리는 작업이다. 노광 공정은 반도체 핵심 공정으로 메모리, 비메모리 모두 활용한다.

    16일 업계에 따르면 ASML의 2분기 성적표는 1분기보다 매출은 36.2%, 순이익은 92% 늘어났다. 반도체 업종은 코로나19의 창궐과는 전혀 무관하다는 점을 증명한 셈이다.

    ASML은 노광장비 시장 점유율 86%로 압도적인 1위 기업이다. 차세대 노광 기술인 EUV에 있어서는 독점력을 유지하고 있으며 경쟁사들은 개발을 포기한 상태로 알려졌다. 

    7나노미터(nm, 1나노는 10억분의 1m)에서 도입이 시작된 EUV 기술은 TSMC, 삼성전자, 인텔 등 선두 반도체기업들의 EUV 도입을 통한 미세화 기술 경쟁이 가속화됐다.

    단, 인텔은 10나노미터 공정 양산 시점이 지속적으로 지연됨에 따라 공정기술에 있어서 한 발 뒤쳐졌다는 평가를 받고 있다. 

    대만의 TSMC, 삼성전자 등 비메모리 파운드리 고객사가 ASML이 생산하는 EUV(극자외선) 노광장비의 주요 고객사이다. 메모리 노광장비는  SK하이닉스, 마이크론도 고객이다. 

    5~7나노미터 이하 비메모리 반도체 생산에는 ASML이 독점 생산 중인 반도체 노광 공정 시스템인 극자외선(EUV)장비가 필수적이다. 

  • EUV 노광기는 대당 가격이 1500억원에서 2000억원의 초고가 장비지만 요즘은 ‘없어서 못파는’ 상황이다. 

    전세계 반도체 위탁생산(파운드리, Foudnry) 1, 2위 업체인 TSMC와 삼성전자가 5나노미터 미세공정에 진입하고 2022년에는 나란히 3나노미터 양산에 돌입하는 등 기술 경쟁이 치열한 상황이기 때문이다.

    5나노미터 공정을 통해 반도체 미세 회로를 그리는 기술은 TSMC와 삼성전자만이 구현할 수 있다. 반도체 제작에 미세공정이 계속 발전할 수록 칩 크기와 전력소모가 함께 줄어든다. 

    반도체 맞춤 제작을 하는 파운드리 입장에서는 설계만 하는 팹리스(Fabless) 고객사의 입맛에 맞는 양질의 제품을 내놓을 수 있는 셈이다. 

    ASML은 최신 반도체 노광 공정 시스템인 극자외선(EUV) 노광기를 세계에서 독점으로 공급하는 회사다. EUV 노광기는 1500억원 이상의 초고가 기기인 것으로 알려진다.

    피터 베닝크 ASML CEO는 15일 실적발표에서 "ASML은 2분기 9대의 EUV 시스템을 선적했는데 이 가운데 7대가 2분기 실적에 반영됐다"며 "2분기 예약 매출액은 11억유로로, 이 가운데 4억6100만 유로(3대 장비)가 EUV 장비"라고 밝혔다. 

    한편 ASML은 3분기 매출이 2분기 매출보다 높을 것이라고 예상했다.